碱显影的电子设备光刻用的辐射固化树脂涂料

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此可碱显影的辐射固化树脂用于电子设备制造用的光刻胶，它含有由含羧基的不饱和单体(10%～50%)、含烷基的无羧基的不饱和单体(20%～60%)以及其他共聚单体(5%～40%)组成的碱溶性共聚物，多烯化合物以及辐射化学聚合引发剂。例如：

甲基丙烯酸 20mol%

2－六氢邻苯二甲酰基乙基的甲基丙烯酸酯 15mol%

二环戊烷基的甲基丙烯酸酯 45mol%

苯乙烯 15mol%

1，3－丁二烯 5mol%

组成共聚物10．0g。

上制共聚物 10．0g

Lucirin TPO(2，4，6－三甲基苯甲酰基二苯基膦的氧化物) 2．0g

Irgacure 651(聚合引发剂，苄基二甲基缩酮) 1g

Aronix M8060(不饱和单体，丙烯酸低聚物) 4．0g

γ－缩水甘油基氧丙基三甲氧基硅烷 0．05g

BM1000(表面活性剂) 0．03g

1，1，3－三(2，5－二甲基－4－羟基苯基)－3－苯基丙烷 0．2g

混合后溶于10g3－甲氧基丙酸甲酯中，然后捏合，得可辐射固化树脂。将此树脂涂在镍板上，在90℃下预烘烤5分钟后，通过光掩模辐射紫外线。再以氢氧化四甲基铵的水溶液显影，得到电路花纹图，其薄膜厚度保持率为96%，并有良好的抗开裂性能。

(日本特许公开：08－301911)