光学仪器防霉剂——SF-501

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一种高效光学仪器防霉剂。

由中国科学院上海有机化学研究所、兵器工业部朱定辉、严静娟、倪国良、秦士章等发明。该剂具有强烈抑制霉菌生长的能力，并具有在光学零件表面不结雾、对光学零件表面及其镀层不腐蚀，对光学性能无影响，化学稳定性好、毒性低、使用安全、用量少、药效长等优点，能确保光学仪器5～10年内不长霉。

1971年以来，应用该剂防霉的密封和半密封光学仪器共计10万余台(具)，从未发现生霉现象，效果很好，有重大经济价值。

该项发明曾获1983年国家发明二等奖。