四烷氧基硅烷制自金属态硅和醇类，它经过水解和缩聚可得聚硅氧烷低聚物，产品单体含量≤1%，氯含量≤10mg／kg，钍和铀的含量≤0．1mg／kg。它具有很长的操作寿命，适宜于作陶瓷材料的硬质涂料、半导体的绝缘体用。
例如，硅粉210g和甲醇适量，在220℃下加热加压6小时，得四甲氧基硅烷，纯度为99%。
再将上制的四甲氧基硅烷1520g、水144g和甲醇480g在65℃下水解4小时，得到的低聚物中单体含量≤0．5%，氯含量≤1mg／kg，钍和铀的含量≤0．001mg／kg。
(日本特许公开：08－03174)