光致抗蚀剂

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一种有机合成感光胶，受一定波长的光照射会发生化学变化。

它与普通照相制版感光胶相比具有如下的特点：1．化学结构稳定，便于储存；2．分辨率高，晰像力强，能够刻蚀出精度高的细线条和清晰的图形；3．对紫外线光敏感，对可见光不敏感，因此工艺操作方便。分为正、负光致抗蚀剂两种。

目前，在制作集成电路或大规模集成电路时都使用光致抗蚀剂。