磁畴cichou
在居里温度以下未磁化的铁磁质内部，分为许多自发饱和磁化的小区域。磁畴的形状和大小在不同材料中很不相同。其线度可以从微米量级到毫米量级。每个磁畴中的电子的自旋磁矩自发地取向一致，以保证其磁能最低。即每个磁畴都自发地磁化到饱和程度。但在无外磁场时，由于各磁畴的磁化方向不同，所以宏观上不显磁性。
外斯在1907年首先提出形成铁磁性的分子场理论和磁畴假说，但他没解释分子场的起因是什么。海森伯在1928年从量子力学观点出发认为电子自旋间存在着交换作用，使电子自旋平行排列时能量最低，因此产生了铁磁性。应用磁畴这种微观结构可以定性地解释铁磁质的磁化过程和磁化特性。在外磁场作用下磁畴将发生变化，当外磁场较弱时，磁畴磁矩向与外磁场方向接近的或一致的小区域边界扩展、体积增大称为壁移（磁畴壁移动）；当外磁场较强时，磁畴的磁矩将发生沿外磁场方向的转动；当外磁场更强时取向作用（转向）更强，将产生一个很大的附加磁场；当所有磁畴磁矩都转到与外磁场方向一致时，磁化达到饱和。饱和磁化强度就等于每个磁畴中原有的磁化强度。由于磁畴原有的磁化强度很大，所以饱和磁化强度也很大，这就是铁磁质比顺、抗磁质磁性强的原因。磁畴的壁移和转向是不可逆的，内应力的存在等原因使得当外磁场去掉后磁畴不能逆着磁化过程恢复到原来状态，这就是造成磁滞和剩磁的原因。铁磁性与磁畴结构分不开，强烈的振动和高温都会使磁畴瓦解，使铁磁质磁性减弱甚至变成顺磁质，所以在使用永磁铁时要注意避免摔打、振动和高温。