O002122　X射线光学在固体领域中的应用

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H．J．奎瑟主编。

王煜等译。科学出版社1985年1月版。21万字。重点介绍与固体材料微观结构研究及固体器件制作密切相关的几种新型X射线光学技术，详细阐述对半导体器件和其他高集成度固体器件进一步微型化具有十分重要意义的X射线光刻技术的科学原理、工艺过程及实际应用，讨论X射线干涉量度术、中子干涉量度术、X射线形貌术、中子形貌术的理论基础——衍射动力学理论，介绍它们的试验方法和在晶体缺陷研究及其他自然界基本特性研究方面的应用。

对最强常规源——旋转阳极X射线发生器也作专门论述。