1.5微米～2微米实用型直接分步重复投影光刻机中国科学院光电技术研究所吴濯才等研制。采用电视对准系统，首次在国内实现硅片掩模同轴对准，采用自行研制的精缩投影物镜与新型光均匀器组成的曝光系统，具有X-Y独立伺服粗微动精密定位工件台及计算机主从控制系统和管理、校正软件。该光刻机在国内首次完成2微米CMOS2000门电路实用化流片考核，通过三批流片均制作出功能完整的器件，成品率高达50%以上，是国内首台能用于工艺线的实用型光刻机。整机综合性能指标及实际工艺考核结果与国内同类机型比较，处于领先地位，相当于国外同类机型80年代中期水平。获1994年中国科学院科技进步一等奖。 |