射线透照工艺

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1．射线能量的选择

(1)射线能量选择的首要因素是穿透力。X射线的穿透力取决于管电压，γ射线的穿透力取决于源种类，可按上表1－12－5，表1－12－6进行选择。

(2)在满足穿透力要求的条件下，随着射线能量的提高，会导致底片对比度下降，不清晰度增大，使底片灵敏度降低。因此，选择射线能量的原则是：在保证穿透力的条件下，尽量选择较低的能量。具体选择可依照曝光曲线。

(3)为保证射线照相质量，避免高能量短时间透照带来底片质量的降低，各标准对X射线都规定了最高允许透照电压限制，对γ射线则规定了适用的透照厚度范围，即不仅规定了上限，而且规定了下限。在选择射线能量时必须满足这些规定。

2．焦距的选择

为满足几何不清晰度U_g的要求，由U_g的计算公式可得到射源至工件表面距离最小值L1_min的计算公式：

按照我国现行标准对U_g的要求，可得到透照距离L₁的选择应满足的条件：

质量等级 透照距离L₁应满足的条件

A级 L₁≥7．5dfL₂^2／3

AB级 L₁≥10d_fL2^2／3

B级 L₁≥15d_fL₂^2／3

因为焦距F=L₁+L₂，所以上式也确定了焦距F的最小值。

F_min=L_1min+L₂

因此，焦距F≥L_1min+L₂

除应用以上公式计算外，还可以从各标准中列出的诺模图上直接查出射源焦点至工件表面的最小距离L_1min。

3．曝光量的选择

曝光量 E=i·f

式中：i．管电流(mA) f．曝光时间(min)

(1)曝光量应按照曝光曲线选择，曝光曲线是根据所选择的射源，胶片和增感屏应用阶梯试块作的实验曲线。

(2)为了得到较高的像质和灵敏度应采用较低的管电压，较大的曝光量。

(3)当曝光量确定后，应选用大的管电流，短的曝光时间。

(4)为防止用短焦距和高管电压造成的不良影响，各标准都规定了最低曝光量限制，在制定透照工艺时必须遵循。我国有关标准规定的最低曝光量限制为15mA·min。